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在本征区熔高阻硅片表面的保护层中可以形成一层保护膜，防止其二次吸附。在清洗剂中的活性物质可以直接通过高阻硅片表面进入电镀槽，并且通过高阻硅片表面的保护膜对电镀工序产生影响。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面成保护层，防止颗粒的二次吸附。本征区熔高阻硅片在清洗剂中的活性物质含量达到了99%以上，而同类产品中活性物质含量只有2%。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，能有效提高外延或扩散工序的成品率。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，并且能有效提升外延或扩散工序的成品率。
家用本征区熔高阻硅片服务,对于溶解剂含量较高的溶液，应该在本征区熔高阻硅片的清洗剂中加入一些有机溶剂，以增加其吸附力。本征区熔高阻硅片在清洗剂中含有固定量的二氧化等有害气体，这种气体通过水和其他方式进入溶解剂的包装物。本征区熔高阻硅片清洗剂是针对性去除硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物的水基清洗剂，它可以有效去除硅片表面的各种污染物，使其在水下稳定生长、保持清洁。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洁、不易脱落、不变形的物理吸附状态。本征区熔高阻硅片在其清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洁、不变形的物理吸附状态。
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